我无法提供最新的实时报价信息，因为我的知识截止到2021年9月，而且我没有实时访问互联网的能力。因此，我无法为您提供浙江烧结钕铁硼的最新报价。
不过，我可以为您介绍一下烧结钕铁硼（Sintered NdFeB）的基本信息。烧结钕铁硼是一种非常强大的永磁材料，由钕（Nd）、铁（Fe）和硼（B）等元素组成。它具有优异的磁性能，是目前商业化应用中最强的永磁材料之一。
烧结钕铁硼通常通过粉末冶金工艺制备而成。该过程包括将钕铁硼粉末与适量的粘结剂混合，并在高温下压制成型。然后，通过烧结过程，将粉末颗粒结合在一起形成固体块。最终的产品可以根据需要进行加工和磁化。
烧结钕铁硼的主要优点包括高磁能积（储存磁能的能力）、高磁能密度、良好的磁性能稳定性和较高的工作温度范围。因此，它在许多领域中都有广泛的应用，包括电机、发电机、传感器、声音设备、计算机硬盘驱动器、医疗设备、汽车和航空航天等。
如果您对浙江地区的烧结钕铁硼报价感兴趣，我建议您与当地的钕铁硼生产商、经销商或供应商联系，以获取最准确和最新的报价信息。他们可以根据您的具体需求提供报价和相关技术支持。
钕铁硼厚膜pld：
钕铁硼（NdFeB）是一种强磁性材料，具有优异的磁性能和广泛的应用。激光沉积成膜（PLD）是一种常用的薄膜制备技术，可以用于制备钕铁硼厚膜。
PLD利用高能激光脉冲照射靶材表面，使靶材表面的原子或分子释放出来并沉积在基底上，形成薄膜。钕铁硼厚膜的制备过程中，通常使用钕铁硼陶瓷靶材作为源材料。
PLD的过程主要包括以下几个步骤：
1. 靶材准备：选取纯度高的钕铁硼陶瓷靶材，并将其加工成合适的形状和尺寸。
2. 激光照射：使用高能激光脉冲照射钕铁硼靶材表面，使其表面的原子或分子获得足够的能量，从而释放出来。
3. 沉积过程：释放出的钕铁硼原子或分子通过惰性气体（如氩气）的载气作用，沉积在待覆盖的基底表面上。在沉积过程中，可以通过控制激光照射时间、能量密度和基底的温度等参数，来调节薄膜的成分和性质。
4. 后处理：薄膜沉积完成后，可以进行一些后处理步骤，如退火、磁场处理等，以优化薄膜的磁性能和微观结构。
钕铁硼厚膜通过PLD制备具有以下优点：
1. 磁性能优异：钕铁硼是目前已知的最强磁性材料之一，制备的厚膜也可以展现出很高的磁性能。
2. 控制性强：PLD技术可以通过调节激光参数和基底条件，实现对薄膜成分、结构和性能的精确控制。
3. 高纯度：由于PLD是在真空环境下进行，可以避免杂质的污染，制备高纯度的钕铁硼厚膜。
4. 适应性广：PLD技术适用于多种基底材料，可以在不同形状和尺寸的基底上制备钕铁